Un controlador de presión electrónico de válvula dual consta de un cuerpo, por el que pasa un flujo, con un sensor de presión calibrado y conectado a un controlador PID. El controlador PID acciona una de las dos válvulas proporcionales integradas en el cuerpo; la válvula aguas abajo se abre para aumentar la presión y la válvula aguas arriba lo hace para disminuir la presión. En una situación estable, ambas válvulas se cerrarán y por lo tanto, no hay consumo de gas o líquido en estado estacionario.

Los cambios de temperatura, debidos a las condiciones cambiantes del proceso o la compresión del gas de referencia, serán compensados ​​por el controlador PID de alta precisión, que ajusta las válvulas para establecer la presión de referencia requerida.

Se utilizan los parámetros de su aplicación para personalizar tanto el tipo de válvulas como el ajuste del PID del controlador de presión, para garantizar un control rápido y estable.

RANGOS DISPONIBLES:

• Rangos de presión absoluta: Desde 0-15 mbar hasta 0-207 bar
• Rangos de presión relativa: Desde 0-5 inH2Og hasta 0-207 bar

ESPECIFICACIONES:

• Rangeabilidad: 200:1
• Precisión: Hasta +/- 0.125% FS
• Repetibilidad: 0.08% FS
• Tiempo de respuesta de control típico: 50-100 ms (tan solo 25 ms con ajuste PID, dependiendo del tamaño de la línea y los volúmenes y presiones involucradas)
• No se requiere tiempo de calentamiento
• Alta velocidad de muestreo: 1000 lecturas por segundo
• Pantalla retroiluminada o TFT a color
• Capacidad para controlar gases y líquidos
• Registro de datos en su PC a través de una conexión de datos en serie

APLICACIONES

Control de presión absoluta y relativa

El puerto en la parte frontal de la unidad está conectado al volumen cerrado, donde desea controlar la presión. La válvula del lado de suministro se abrirá para aumentar la presión en el volumen cerrado, y la válvula en el escape se abrirá para disminuir la presión.

 Control de presión por detección remota

Los modelos de la serie PCD3 detectan y controlan la presión en un punto del sistema fuera del controlador de presión. Un puerto adicional en la parte posterior del equipo está conectado directamente al sensor de presión absoluta del controlador. El sensor de presión está aislado de la ruta de flujo en esta configuración.

Control de presión diferencial

Los dispositivos de presión de la serie PCD-PSID monitorizan y controlan el diferencial de presión entre dos puntos del sistema. Estos dispositivos tienen dos puertos ubicados en la parte frontal de la unidad para la conexión a dos puntos en el sistema desde donde se mide la presión diferencial. El puerto aguas arriba es para la mayor de las dos presiones, y el puerto aguas abajo es para la presión más baja. El puerto de proceso se encuentra en la parte posterior del controlador de presión. En estos dispositivos, la ruta de flujo a través del dispositivo no está conectada a ninguno de los puertos del sensor de presión diferencial.

Otras aplicaciones:

• Comprobación de fugas de helio de alta eficiencia
• Pruebas aerodinámicas de alta velocidad
• Dispensación de fluido mediante control de presión
• Pruebas en pilas de combustible
• Control de presión con puerto de detección
• Regulación del vacío en el sistema de prueba cuando la fuente de vacío varía

Uso con líquidos

Todos estos controladores de presión se pueden utilizar con líquidos químicamente compatibles, pero se debe tener en cuenta la siguiente consideración:

* El agua es aproximadamente 50 veces más viscosa que el aire. Esto es importante al dimensionar un controlador de presión, ya que este aumento significativo en la viscosidad requiere una válvula más grande para alcanzar los caudales esperados. Por ejemplo, un controlador de presión dimensionado para un caudal hasta 25 SLPM de aire se limitará a aproximadamente a 0.5 LPM de agua (o fluido similar).

Controladores de vacío integrados de doble válvula (IVCD)

Los IVCD son similares a los controladores de presión absoluta en funcionalidad y en el menú de navegación disponible en la pantalla. Estos dispositivos se utilizan en aplicaciones donde se requiere un control preciso del vacío.

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